Bornitrid-Ionenstrahl-Sputtertechnologie

Unter Verwendung der Partikelstrahl-Sputter-Abscheidungstechnologie wird ein Mischprodukt aus kubischem Bornitrid und hexagonalem Bornitrid erhalten. Obwohl dieses Verfahren weniger Verunreinigungen aufweist, ist es schwierig, die Reaktionsbedingungen zu kontrollieren, so dass die Morphologie des Produkts schwer zu kontrollieren ist, und die Forschung an diesem Verfahren hat ein großes Entwicklungspotential.